Intel i ASML donose revoluciju u litografiji čipova

Prema navodima Intela i nizozemskog proizvođača poluvodičke opreme ASML-a , proradio je novi High NA EUV litografski sustav, iako još ne s punim performansama.
Voditeljica tehnološkog razvoja u Intelu, Ann Kelleher , prvi je puta spomenula ovaj iskorak tijekom govora na SPIE litografskoj konferenciji u San Joseu.
Litografski sustavi koriste fokusirane svjetlosne zrake kako bi pomogli u stvaranju sićušnih sklopova računalnih čipova. Očekuje se da će ASML-ovi High NA EUV alati, koji su veličine dvokatnog autobusa i koštaju više od...
- Objavljeno u Novosti








