Intel i ASML donose revoluciju u litografiji čipova

Prema navodima Intela i nizozemskog proizvođača poluvodičke opreme ASML-a, proradio je novi High NA EUV litografski sustav, iako još ne s punim performansama.

Voditeljica tehnološkog razvoja u Intelu, Ann Kelleher, prvi je puta spomenula ovaj iskorak tijekom govora na SPIE litografskoj konferenciji u San Joseu.

Litografski sustavi koriste fokusirane svjetlosne zrake kako bi pomogli u stvaranju sićušnih sklopova računalnih čipova. Očekuje se da će ASML-ovi High NA EUV alati, koji su veličine dvokatnog autobusa i koštaju više od 350 milijuna dolara, pomoći u razvoju novih generacija manjih i bržih čipova.

Prvi High NA alat koji postoji nalazi se u ASML-ovom laboratoriju u Veldhovenu u Nizozemskoj, a drugi pod nazivom Twinscan EXE:5000, sastavlja se u Intelovoj tvornici blizu Hillsboroa u Oregonu.

Izvor svjetlosti jedan je od najsloženijih dijelova bilo kojeg alata za litografiju s ekstremnim ultraljubičastim (EUV) zračenjem. Ni ASML ni Intel ne otkrivaju maksimalnu snagu izvora svjetlosti u Twinscan EXE stroju.

Očekuje se da će napredni proizvođači čipova, uključujući TSMC i Samsung, usvojiti alat u sljedećih pet godina, a Intel je rekao da ga namjerava koristiti u proizvodnji za svoju 14A generaciju čipova, koja se očekuje 2027. godine.

Više detalja o High NA EUV litografskoj tehnologiji možete pronaći na ovoj poveznici.